Yarimo'tkazgich uchun odatda ishlatiladigan gazlar

Chip ishlab chiqarish jarayonida nafaqat yadro yoki litrografiya, fotorezistlar, fotorezistlar va kremniy kabi materiallar, balki elektron gaz deb nomlangan maxsus gaz kerak. Sanoat zanjiridagi xom ashyoni, maxsus elektron gazlar, masalan, etiklash, tozalash, epitaxial o'sish va ion implantatsiyasi kabi turli xil aloqalarga jalb qilingan. Ular butun chipta ishlab chiqarish sanoatiga ajralmas, shuning uchun ular yarimo'tkazgichlarning "qon" deb nomlanadi.

Elektron gazning ishlashi, integratsiyasi, hosildorligi va boshqa integral mikrosxemalarning boshqa asosiy ko'rsatkichlariga ta'sir qiladi, elektron gaz tozaligiga yuqori talablar mavjud. Jarayonning asosiy qiyinchiliklari tufayli elektron gaz ikkinchi yirik materialga aylandi va uning narxi silikgi grafikalar uchun ikkinchi o'rinda.

Yarimo'tkazgich uchun odatda ishlatiladigan gazlar

1. Ftorid gazi:

Oltingugurt hexafluorid (SF6)

Oltingugurt hexafluorid SF6 yarimo'tkazgichli quruqlikdagi eng ko'p ishlatiladigan ftorid gazlaridan biridir. U yuqori sayinchilik va kuchli etching stavkasi bilan tavsiflanadi. Silikon oksidi, kremniy floridi, kremniy ftoridi, kremniy flitsi va boshqalar kabi past dielektsion statsionar materiallarni yutish uchun mos keladi.

Oltingugurt hexafluorid haqida ko'proq ma'lumot oling (SF6)>>

Uglerod tetrafluorid (CF4)

Uglerod Tetrafluoridis CF4 har xil garov qiluvchi jarayonlarda ham qo'llaniladi. CF4 hozirda mikroelektronika sohasidagi eng keng qo'llaniladigan plazma plazmasi. Bu kremniy, kremniy dioksid, kremniy nitrid, fosflatat shishasi va volfram kabi ingichka plyonka materiallarini va maydalangan ingichka plyonka materiallari, va elektron qurilmalar va quyosh hujayralarini sirt tozalagich kabi keng qo'llanilishi mumkin. Shuningdek, u lazer texnologiyasi, gaz bosma imzolamasligi, past haroratli muzlatish, oq rangni aniqlash vositalarida, oqilona raketalar va preparatni xalaqit beradigan vositalarni ishlab chiqarishda keng qo'llaniladi.

Uglerod tetraflubidi haqida ko'proq ma'lumot oling (CF4)>>

Azot Trifluorid (NF3)

Azot TriFluoride NF3 Gaz ftorid gazlari orasida eng sekin etchlash kursiga ega, ammo yaxshi tanlovga ega. Turli xil materiallar bir-biridan ajratilganda va organik materiallarni yutish uchun ham yaxshi ishlaydi.

Azot trifluoridi haqida ko'proq ma'lumot oling (NF3)>>

2. Okside gaz:

O2 yarimo'tkazgichli quruqlikda va oksidlar va metall materiallarni oksidlash uchun ishlatiladigan oksidli gaz. O2 sekin qatlamli stavkaga ega, ammo kuchli saralash, shuning uchun ko'pchilik oksid materiallarini yutish uchun mos keladi.

H2O

H2O yaxshi yengillik bilan oksid gazidir va qattiq fotorezistlar va organik qatllarni yutish uchun ishlatilishi mumkin. Biroq, ftorid gazi bilan aralashganda, bu reaktsiyaning tanlovchiligiga ta'sir qiladi.

N2O

N2o vodorodlangan kremniy va metall materiallarni oksidlash uchun ishlatilishi mumkin. Uning etchlash darajasi O2 dan tezroq, ammo uning tanlanishi O2 dan yomonroq.

Yuqoridagilar yarimo'tkazgich quriyotganda keng tarqalgan gazlarning turlari va xususiyatlari. Ularning etching jarayonidagi qo'llanilishi juda muhimdir. Turli xil materiallar uchun va turli xil lashking maqsadlari uchun, etchashtirish uchun tegishli gazlarni tanlash kerak.

BizdorSSIial Etching Gas etkazib beruvchisi, wQo'shimcha ma'lumot uchun biz bilan bog'lanishni xohlayman!